【中国观察北京时间2025年05月27日讯】央视近期删除了关于华为5纳米芯片的报道，引发关注。在美方制裁背景下，华为无法获取EUV光刻机生产7纳米以下芯片。业内人士透露，EUV光刻机研发难度极高，中国至少十年内难以实现高端芯片量产。
5月24日，央视曾报道华为鸿蒙电脑搭载5纳米芯片"麒麟X90"，显示突破制裁迹象，但报道随后被删除。中国芯片大厂产品经理易先生指出，国内最先进制程仍无法实现，中芯国际7纳米产能仅能满足华为需求，良率徘徊在五成左右，5纳米良率更是极低。其他芯片厂商普遍停留在12纳米或14纳米水平。
美国禁止ASML向中国出口EUV光刻机，导致中国无法生产7纳米以下芯片。2021年中芯国际曾用DUV光刻机多重曝光实现7纳米芯片。中国微电子博士陈尧透露，国内高校联合研发的EUV光刻机至少需十年才能问世，其中光部分需5年，高精度研磨板和精密机器需3-5年，商用阶段还需2-3年。
深圳市国资委投资的芯片设备厂商新凯来三月底公布研发出300毫米晶圆28纳米浸润式光刻机。华为前工程师王耀透露，国企贪腐问题导致他当年未加入新凯来。他指出，制裁已让华为放弃所有幻想，2020年新凯来成立时曾由华为内部调人，国家承诺8年合同保障研发。
美国去年底将140家中国公司列入贸易黑名单，今年3月新增54家，4月又禁止英伟达出售AI芯片H20。王耀表示，半导体企业必须考虑制裁风险，其现任职公司亦在制裁名单，芯片库存即将耗尽，计算中心建设面临严峻挑战。