【中国观察北京时间2026年07月31日讯】台湾最高法院于7月30日就台积电高阶制程机密遭窃案作出最终判决，驳回前台积电工程师陈力铭及共犯陈韦杰的上诉请求。根据判决结果，陈力铭被判处有期徒刑10年，陈韦杰获刑6年。案件起因是陈力铭在跳槽至日商东京威力科创后，为获取台积电蚀刻机供应资格，与内部工程师合谋窃取核心技术。最高法院全案定谳，两人将直接移送监狱执行。
据调查，陈力铭在任职期间通过非法手段获取敏感技术资料，相关行为已构成重大商业间谍罪。案件审理过程中，检方提交的证据显示，涉案人员通过伪造文件、篡改系统数据等方式实施犯罪。台湾司法机关强调，此案涉及的高阶制程技术对半导体产业具有战略意义，任何非法获取行为都将受到法律严惩。目前，相关涉案人员已进入司法执行阶段，后续将依照程序进行羁押。
这起案件暴露出半导体产业技术安全的脆弱性。陈力铭的行为不仅违反了企业保密协议，更触及了国家安全红线。值得注意的是，涉案人员通过跨国企业渠道实施犯罪，反映出技术窃取手段的复杂性。台湾司法系统对案件的快速定谳，显示出对高科技犯罪的零容忍态度。然而，案件背后折射出的产业竞争压力，值得深思。当企业面临技术壁垒时，如何在合法框架内寻求突破，或许是更值得探讨的议题。