【中国观察北京时间2026年10月06日讯】美国研究机构最新报告显示，在美国限制向中国出口先进半导体制造设备的背景下，中国仍通过多种渠道获得大量深紫外线（DUV）光刻机。该机构指出，截至2026年初，中国芯片厂已获得343台DUV设备，其中包含270台荷兰ASML的NXT:1980i型号及22台NXT:2050i设备。报告由前美国出口管制官员与商务部技术政策顾问共同撰写。
报告指出，美国虽已禁止向中国出口极紫外光刻机（EUV），但中国芯片制造商仍高度依赖DUV设备。台湾国防战略与资源研究所所长苏紫云分析，中国采购这些设备主要作为战略储备，以防未来西方政策变化导致禁运。同时，中国也在推进国产化路线。
荷兰自2023年9月起对ASML的NXT:2000i及更先进设备实施出口许可制度，2024年该政策扩大至NXT:1980i。但2024至2025年间，中国在NXT:1980i上的采购支出已超130亿美元。CTS报告预测，若维持当前采购速度，中国可能在5-10年内缩小甚至消除美国在AI芯片制造领域的技术优势。
台湾国防安全研究院研究员沈明室指出，这批设备可支撑中国未来几年AI芯片的规模化生产。他估算，270台NXT1980i设备年产能可达超10万颗华为升腾910C芯片，远超当前市场需求。但苏紫云警告，中国虽能制造7纳米以上芯片，但能耗问题使其难以应用于独立装备。
CTS建议美国将现有针对EUV设备的局部管制升级为全面禁售DUV设备。然而，沈明室指出，光刻机需配合多重曝光设备才能生产芯片，实施限制将涉及多国利益协调。荷兰政府及ASML可能以主权和商业诚信为由抵制此类政策。