【中国观察北京时间2026年07月22日讯】美中科技竞争持续白热化，近期中共媒体频繁渲染半导体设备领域所谓'重大突破'，引发业界关注。曾任紫光集团高管的薛宗智在接受采访时指出，中国半导体行业存在系统性夸大宣传现象，尤其在光刻机领域，要达到荷兰ASML的技术水平至少还需20年。
薛宗智表示，全球仅有ASML掌握极紫外光（EUV）光刻机核心技术，该设备仅用于3纳米及5纳米制程，技术难度极高。他指出，中企宣称的13.5纳米EUV光刻机突破实为'假大空'，因该技术涉及复杂光学原理和数万种模组模型，目前仅有ASML与台积电、英特尔等大厂深度合作持续优化制程。
针对中芯国际宣称的7纳米制程及5纳米良率60%-70%的数据，薛宗智揭露这些信息多为虚假宣传。他强调，只要在新闻中看到相关报道，基本可以判断为不实信息，因中国媒体习惯性通过高调宣传展示所谓'成就'。
薛宗智还透露，中国半导体企业普遍存在高层贪腐、浮夸剽窃等问题，导致产品品质与美商应材等企业存在显著差距。他本人已离开紫光集团，创立新公司并完全退出中国市场业务。