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中国半导体突围困境 企业揭露技术破解路径

发布时间: 2025-06-05 08:29:32    最后更新: 2026-08-20 23:37:45    阅读:113  约2 分钟阅读     

【中国观察北京时间2025年06月05日讯】美国对华半导体技术封锁导致中国高端设备采购受阻,但行业内部人士透露,部分西方设备厂商存在技术泄露风险。半导体设备分为前端制程与后端封测两大类,其中光刻机等高端设备成为关键制约因素。

中国半导体设备供应商张杰指出,美国禁止荷兰阿斯麦公司向中国出口光刻机后,国内芯片制造良率持续下滑。他提到,公司技术团队曾参与ASML设备翻新工作,但光刻机核心技术仍需15至20年研发周期。数据显示,一条尖端芯片产线设备总投入达500亿至1000亿元,其中光刻机占比约15%。

业内人士披露,美国应用材料、泛林集团等企业内部存在大量中国技术人员,部分设备已被破解。中国芯片大厂产品经理杨瑞表示,光刻机核心部件更换成本高昂,某些光源设备价格可达数百万至上千万美元,市场存在灰色交易渠道。

国内低端设备市场出现恶性竞争,国企新凯来凭借国家补贴低价倾销,导致行业秩序混乱。从业人员李明担忧,这种无序竞争将削弱企业研发投入能力,影响未来技术突破。

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