2026年7月29日，SK海力士位于韩国利川的工厂大楼上可以看到该公司的标志。（Jung Yeon-je / AFP via Getty Images）
【中国观察北京时间2026年08月09日讯】韩联社报道，韩国首尔高等法院今日维持原判，对一名前SK海力士员工向中国公司泄露半导体制造技术信息的案件作出最终判决。该员工被判处18个月有期徒刑。
法院认定，被告于2022年通过内部服务器下载SK海力士商业机密文件，将涉密资料拍摄或打印后，嵌入求职履历交予中国某企业。涉案信息涉及用于智能手机相机及笔记本电脑的CMOS影像传感器技术。由于未公开中国公司名称，案件细节仍存争议。
据审理显示，被告曾在SK海力士驻华办事处任职，其行为严重违反企业安全规定。SK海力士表示已追回大部分泄露数据，但未透露具体回收比例。法院未回应路透社相关置评请求。