【中国观察北京时间2025年07月24日讯】近期大陆官方媒体密集报道所谓'中国极紫外光刻机技术取得重大突破'的消息，但多位行业专家指出这些报道存在夸大成分。光刻机作为融合微观精密与宏大规模的复杂工程，其核心光源系统目前仍由荷兰ASML主导，相关技术突破需长期积累。
据陆媒披露的所谓实验室进展，被台湾前采购经理薛宗智质疑为宣传噱头。他指出'只要看到频繁发新闻的都是假的'，因为真正突破性技术往往不会公开。台湾国防安全研究院苏紫云强调，实验室成果要实现商业量产需跨越巨大鸿沟，'从实验室到量产有时二十年都做不到'。
专家分析显示，光刻机涉及数百个精密模块和关键组件，需要系统性技术突破。台湾工研院李冠桦指出，这种精密系统要求各环节紧密配合，而大陆体制下人才流动受限，'任何人都没有真正的安全'。美国智库数据显示，2019-2024年间荷兰占据光刻机市场79%份额，中国仅占4%，且仅掌握传统365纳米制程技术。
行业评估显示，大陆在光刻机硬体技术上存在至少30年差距。这种技术断层不仅体现在设备制造层面，更反映在基础科研积累与人才培育体系的深层矛盾。