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中国秘密研发EUV光刻机项目引关注

发布时间: 2025-12-17 20:21:28    最后更新: 2026-09-26 16:10:50    阅读:120  约2 分钟阅读     

消息:中共秘密打造高端芯片机器
AI 先进芯片示意图(视频截图)

【中国观察北京时间2025年12月18日讯】路透社披露,中国正在深圳一处保密实验室推进EUV光刻机研发。据知情人士透露,该设备原型于2025年初完成,占据整层厂房空间,目前能产生极紫外光但尚未产出可用芯片。

该项目核心依赖逆向工程,由荷兰阿斯麦前工程师主导。部分技术人员退休后被高价引进,需使用假身份工作,项目被列为国家安全机密。EUV光刻机被视为芯片制造核心,全球仅阿斯麦能生产,单台价值约2.5亿美元。

中国内部称此计划为"中国版曼哈顿计划",由丁薛祥主导,华为负责统筹协调。据称目标是2028年前实现国产设备生产先进芯片,但实际进度可能延后至2030年。荷兰情报机构曾警告,中国通过系统性招募和隐秘合作获取西方技术。

阿斯麦前员工因欧洲隐私法律限制,其跨境行为难以被追踪。尽管签署保密协议,但协议执行存在现实障碍。分析人士认为,中国在光学系统等关键技术上仍面临重大挑战,但其推进速度仍快于外界预期。

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