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美国智库:中国芯片光刻技术落后于全球领先者

发布时间: 2025-07-14 12:34:25    最后更新: 2026-08-14 06:17:47    阅读:132  约2 分钟阅读     

华府智库:中国半导体核心技术陷瓶颈 远远落后
受美国多年来主导的出口管制的影响,中共半导体产业距离“核心技术”越来越远。。示意图。(视频截图)

【中国观察北京时间2025年07月15日讯】受美国长期实施的出口管制政策影响,中国半导体产业在核心技术领域面临显著挑战。美国知名智库"安全与新兴技术中心"(CSET)最新研究报告指出,中国在芯片光刻技术领域与先进国家存在明显差距。

中国主要光刻设备供应商上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE)在传统光刻技术市场仅占据4%的份额,远低于荷兰阿斯麦(ASML)和日本尼康(Nikon)等国际巨头。报告强调,光刻技术作为芯片制造的核心推动力,仍是制约中国芯片产业发展的关键瓶颈。

尽管中国持续加大芯片技术研发投入,但美国对荷兰阿斯麦的出口管制限制了先进光刻设备的供应。阿斯麦目前垄断了尖端光刻机市场,这些设备是生产iPhone、英伟达AI加速器等高端芯片的必要工具。CSET研究人员指出,中国在光刻技术领域的落后态势短期内难以扭转。

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