【中国观察北京时间2025年08月27日讯】最近一段时间，中共官媒大量报导吹嘘有关“中国极紫外光刻机技术有重大突破”的消息，不过专家发现，它们基本上是把还处于理论或实验室阶段的东西，拿出来在做宣传，而真正的产品，它们根本做不出来。
在美中科技战的大背景下，目前各国都在管制光刻机出口中国，因此，中国不但无法进口先进的极紫外光刻机(EUV)、深紫外光刻机(DUV)，也无法取得相关设备的维修服务，中国的半导体产业发展也因此大幅受限。
然而，最近中共官方报导却不断吹嘘所谓“中国的光刻机技术取得重大突破”的消息。
其中包含上海光机所的雷射驱动电浆体及紫外光光源实验平台、哈尔滨工业大学的放电电浆体及紫外光源技术(DPP)、还有广东智能机器研究院，利用高功率光纤雷射射击液态锡靶，试图绕过ASML超高功率与超高重频二氧化碳雷射器，以及清华大学主导的稳态微聚束极紫外光源路线等等。
台湾大学电机系教授林宗男：“我们以光源的功率爱斯摩尔最顶级有到600瓦，哈尔滨工业大学的功率大概不到100瓦，媒体报导有到43瓦，其实大概不到150瓦左右的水准，所以有很大的差距，还无法用在实际工厂的制造。”
台湾国防安全研究院战略与资源所所长苏紫云：“第一个，这种是实验室性质的，所以它要到大规模的商业生产性质还有一大段路要走；那第二个，为什么这个时候，是因为要形塑一个就是宣传的这种说法，等于是要跟美国的科技界，还有就是川普政府进行这个就是政治的宣传，让他们可以同意EUV极紫外光的光刻机可以解禁，但是我想这个可能性非常非常的低啦。”
这几种光源路线，先后被中共官媒吹捧为“重大突破”“实质性突破”，听起来好像国产EUV已经指日可待了。
台湾大学电机系教授林宗男：“他们为什么都是会吹捧夸大成就，最主要的部分是因为做不出来，做不出来才要吹捧，如果做得出来，它就直接将产品推出来。这是最主要的原因。”
台湾工研院政策与区域研究组组长李冠桦：“我觉得啦，其实这都是实验室的产物。那实验室在乎的是发表论文，那它事实上走到商业化其实还有很长的一个路要走。”
专家认为，中国要做到荷兰ASML水平至少需要30年。
苏紫云：“这一般来讲，目前推估是在30年左右，就是你要做出这样一个极紫外光机器，这个是上百万个零组件都要去克服的，所以一般业界评估是30年。”
李冠桦：“尤其先进光刻机的发展不纯粹只是在研发，它还需要跟制造端的配合。而这样的配合事实上是需要在制程上具有先进能力跟先进制程发展经验的制造商共同去发展。中国具有先进制程能力这样的厂商是没有的。”
ASML首席执行官克里斯托夫‧富凯（Christophe Fouquet）曾直言，“产生一些EUV光是可能的，但中国要制造出EUV机器还需要很多很多年。”
林宗男：“要做在半导体的生产，除了说雷射的光源这是一个核心的部分之外，因为你要做非常精密，像二纳米高阶的产品，它精密的部分更重要，中国目前并没有这方面的技术。”
中国国内的一些专家也坦言，光刻机不是说砸钱下去就能把差距追平的。
李冠桦：“因为中国常常就是讲叫快速进入市场，其实很多本来应该要慢工出细活的事情，在这个过程中都被省略了，所以这是为什么大家会觉得说，光刻机你砸钱做不出来，因为这个中间的过程你都不想要，你想要最终的成果的话，这个其实是我觉得是缘木求鱼了。”
美国智库“安全与新兴技术中心”的最新数据显示，在2019至2024年间，荷兰占据了光刻工具市场份额的79%，其次是日本占比17%。中国占比仅4%。